尼康拒絕林本堅的浸沒式光刻機方案後，將希望寄託於 EUV 極紫外光技術，並啟動「全自研、全日本產」計畫。然而，此策略卻陷入閉門造車的困境，加上尼康因美國技術封鎖被排除在 EUV 聯盟之外，最終投入逾千億日元的 EUV 項目僅產出無法商用的原型機，被迫終止商業化開發。
2026 年初，日本百年光學巨頭尼康 (Nikon) 發布 2025 財年預虧 850 億日元，創史上最大虧損紀錄，過去半年尼康光刻機僅賣出 9 台，且幾乎全為成熟製程設備，遠遜於艾司摩爾同期高端 EUV 光刻機 160 台出貨量，反映出其在半導體核心戰場的全面潰敗。1980 年代，尼康曾同時稱霸專業相機與半導體光刻機兩大領域，壟斷全球光刻機市場半壁江山。2002 年成為命運轉折點，台積電資深處長林本堅帶著浸沒式光刻機方案敲開尼康大門，卻遭到拒絕。尼康高層質疑「水浸鏡頭」會污染精密光學系統，更不願放棄已投入 7 億美元的 157 奈米乾式光刻機研發。尼康高層甚至致電台積電要求「管好林本堅」，但這個被尼康拒於門外的創意，最終在艾司摩爾技術靈魂范登布林克手中開花結果。
2004 年問世的浸沒式光刻機橫掃市場，尼康從此失去高端市場主導權。受挫後的尼康將希望寄託於 EUV 極紫外光技術，時任技術掌舵人馬立稔和啟動「全自研、全日本產」計畫，獲得日本政府數百億日元支持，聯合佳能、東京電子等企業發起「產官學」攻關。艾司摩爾透過引入英特爾、三星、台積電戰略投資，整合德國蔡司鏡頭、美國 Cymer 光源等全球頂尖資源。兩次關鍵技術路線的選擇失誤，讓尼康墜入深淵。去年 9 月，尼康關閉營運 58 年的橫濱工廠，標誌著光刻機業務進一步萎縮。尼康的潰敗是日本產業「加拉帕戈斯化」的典型縮影：對自身技術實力的過度自信，對外部創新的排斥，以及全產業鏈閉環的執念，使其在科技變革浪潮中淪為孤島。
This is a simplified version of the page. Some interactive features are only available in the full version.
本頁為精簡版，部分互動功能僅限完整版使用。
👉 View Full Version | 前往完整版內容