QST 基板技術如何改善氮化鎵磊晶層的晶圓翹曲問題? | 數位時代

QST 基板技術如何改善氮化鎵磊晶層的晶圓翹曲問題

QST(Qromis Substrate Technology)基板技術透過與氮化鎵(GaN)磊晶層更佳的熱膨脹係數(CTE)匹配性,有效改善晶圓翹曲問題。世界先進(VIS)選擇 QST 基板而非碳化矽(SiC)基板,主要考量到 QST 基板在降低晶圓翹曲方面的優勢,這對於高功率密度電子元件的量產至關重要。

QST 基板的關鍵優勢

由於 QST 基板與氮化鎵磊晶層的熱膨脹係數更匹配,因此在磊晶製程中產生的熱應力較小,從而減少了晶圓翹曲的風險。世界先進與 Kyma 及 Qromis 合作,正是看中了 QST 基板在這方面的優勢,能夠在高功率密度電子元件市場上更具競爭力。此外,使用 QST 基板有助於簡化生產流程,進一步降低製造成本。

市場應用與未來潛力

世界先進鎖定高功率密度的電子元件市場,如高鐵、電動車等應用領域,這些領域對元件的可靠性和效能要求極高。雖然第三類半導體(包括氮化鎵)目前在全球半導體產值中佔比不高,但 QST 基板的成本效益優勢及其在改善晶圓翹曲方面的能力,使其在新興應用市場中更具吸引力,有助於推動氮化鎵技術的廣泛應用。


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