文章中沒有提到高雄廠二期主要目標客戶的製程節點。
新應材成立於 2003 年，初期以面板光阻材料及清洗劑起家，自 2018 年開始轉型，投入半導體先進製程材料的開發，聚焦於對晶圓良率至關重要的微影特用化學材料。目前，新應材已成為台灣唯一在半導體微影製程中，從原料合成、純化到配方自主設計，並持續擴大量產的特用化學材料廠。公司預計於 2025 年 1 月中旬從興櫃轉為上櫃掛牌。
新應材能夠成功打入國內晶圓代工大廠的供應鏈，主要歸功於其向上整合自建原料合成能力，建立本土材料供應鏈策略聯盟，快速回應客戶需求及高學習曲線，以及優異的品質控管及自主設計製程技術。
新應材的四大發展主軸包括半導體先進微影製程、半導體光學元件製程、顯示器製程以及 Micro LED 量子點材料。公司已在半導體領域投入大量資本支出和研發費用，預計到明年底將達到 50 億元。未來 3 至 5 年，半導體光阻將是新應材的發展重點，包括用於半導體光學元件的 ARF 光阻和前段製造的 KRF 光阻，封裝特用化學材料也將是公司後續發展的重點之一。高雄廠二期擴建工程預計於 2025 年第二季完工、2026 年正式量產，新應材的營收有望隨著客戶投片量和產能利用率的提升而顯著增長。
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