Substrate 聲稱正在開發一種基於超短波長雷射和粒子加速技術的緊湊型 EUV 曝光系統，目標是挑戰 ASML 在曝光機市場的壟斷地位。然而，除了曝光技術本身，Substrate 在建立半導體供應鏈時還需克服多項關鍵技術門檻。首先，粒子加速技術能否在晶圓上實現奈米級的精確蝕刻，並在大面積晶圓上保持一致性，是一個巨大的挑戰。此外，高速粒子束的控制、穩定性和對材料的影響也需要深入研究和解決。
除了技術挑戰，Substrate 還面臨著巨大的資金門檻。先進曝光技術的研發和量產需要大量的資金投入。ASML 花費了約 25 年的時間和超過 100 億美元的投資，才將 EUV 微影技術大規模導入。Substrate 要在短時間內建成複雜且資本密集的半導體供應鏈，需要尋求穩定的資金來源，並有效管理資金的使用。
業界對 Substrate 在三年內實現量產的時間表表示質疑。要在更大的晶圓面積上維持同等精度並實現高速曝光，需要數十年的技術累積。Substrate 不僅需要證明其技術的可行性，還需要建立完整的供應鏈，包括設備、材料和人才。此外，還需要克服專利、市場競爭和政策法規等方面的挑戰。因此，Substrate 在短時間內實現量產目標，面臨著巨大的挑戰。
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