華為在中國極紫外光刻機（EUV）原型機的研發項目中扮演了關鍵的協調角色。據報導，華為整合了全國數千名工程師、企業以及國家研究機構，形成了一個龐大的研發團隊。這個項目被形容為中國版的「曼哈頓計畫」，目標是實現中國在先進晶片生產上的完全自主，從而擺脫對美國供應鏈的依賴。華為的角色不僅是技術上的參與，更在於協調和組織全國資源，推動項目的整體進程。
據悉，該EUV原型機是由前艾司摩爾（ASML）工程師團隊通過逆向工程仿製而成。華為在此過程中可能協助團隊取得舊款ASML設備的二手零件，這些零件成為打造國產原型機的重要基礎。儘管中國在複製西方高精密光學系統方面仍面臨技術挑戰，但華為的協調作用有助於克服部分技術障礙。通過整合各方資源，華為加速了中國在半導體技術上的突破。
在美國嚴格的出口管制下，中國決心實現半導體產業的自給自足。華為在EUV原型機項目中的角色，不僅體現了其技術實力，更展現了中國在科技自主上的決心。儘管有分析認為，中國可能要到2030年才能使用該設備製造出可用晶片，但此項突破仍然被視為中國在半導體領域的一大進展。華為在此戰略中扮演著不可或缺的角色，助力中國擺脫對美國技術的依賴。
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