相較於奈米壓印技術，DUV曝光與乾蝕刻技術在結構的垂直度和一致性上，能帶來哪些提升？ | 數位時代

MetaOptics 的 DUV 曝光與乾蝕刻技術優勢

MetaOptics 選擇使用 DUV（深紫外光）曝光與乾蝕刻技術，搭配 12 吋玻璃基板來製造超穎透鏡，這與市場上普遍採用的奈米壓印技術有很大的不同。根據 MetaOptics 副總裁蔡昊澎的說法，主要優勢在於奈米壓印技術難以達到 120 奈米以下的尺寸，並且難以維持穩定的垂直圓柱結構。

高精度與穩定性

DUV 曝光與乾蝕刻技術能夠實現更高的製作精度。MetaOptics 目前已能將圓柱結構的臨界尺寸（Critical Dimension）控制在 100 奈米以下，線性結構約為 90 奈米。這種高精度對於超穎透鏡的光學性能至關重要，因為微小的結構偏差會顯著影響光線的控制效果。此外，乾蝕刻技術相較於奈米壓印，更能確保結構的垂直度與一致性，從而提升產品的整體品質和穩定性。這對於需要高度精確性的光學元件來說，是一個重要的優勢。

量產能力與未來發展

雖然目前市場上已有廠商採用奈米壓印技術量產超穎透鏡，但 MetaOptics 認為，產業缺乏可支撐大量生產的製造技術，以及相應的測試與分選設備。透過 DUV 曝光與乾蝕刻技術，MetaOptics 旨在解決這些瓶頸，提供從生產到測試的一體化解決方案。MetaOptics 目前已與多家國際級智慧手機和車用客戶展開合作，預計明年將正式進入量產階段，顯示其技術在量產方面具有潛力，並能滿足未來市場對高品質光學元件的需求。

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