美國將極紫外光（EUV）技術視為國家安全關鍵，而非僅僅是商業產品，主要是因為 EUV 技術在先進晶片製造中的核心地位。先進晶片是現代經濟和軍事發展的基石，廣泛應用於人工智慧、超級電腦、網路武器等領域。美國擔心中國在這些領域的崛起，認為掌握先進晶片技術將使中國在軍事和科技上取得優勢，進而威脅美國的國家安全。
美國對中國科技發展的擔憂不僅僅局限於傳統武器。美國更關注中國在人工智慧、超級電腦和網路武器等領域的快速發展。這些領域的發展都高度依賴先進晶片，因此，美國將 EUV 技術視為阻止中國科技崛起的關鍵手段。美國擔心中國若能自主生產先進晶片，將在未來的科技競爭中取得優勢，進而影響全球權力平衡。
為了阻止中國獲得 EUV 技術，美國採取了一系列強硬措施，包括外交施壓、出口管制和「微量原則」。美國不僅要求荷蘭政府阻止 ASML 向中國出口 EUV 曝光機，還利用「微量原則」威脅整個國際半導體產業，迫使 ASML 提供詳細的零組件清單。這些策略顯示美國為維護國家安全，不惜干預自由市場和盟友的商業決策。與此同時，美國企業卻在中國市場擴大傳統 DUV 曝光機的銷售，這也顯示美國在經濟利益和國家安全之間的權衡。
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