新應材除了深耕 ARF 和 KRF 光阻技術外，也積極關注其他潛在的先進技術，以擴大其在半導體特用化學材料領域的領先地位。公司專注於半導體微影製程中使用的特用化學材料，並致力於成為台灣唯一在該領域實現從原料合成、純化到配方自主設計的特化材料廠。
新應材將發展重點放在 3 奈米以下的先進製程，並將資源投入於表面改質劑 (Rinse)、底部抗反射層 (BARC) 和洗邊劑 (EBR) 等關鍵材料的研發與生產。這些材料對於提高半導體元件的效能和良率至關重要。新應材透過自主設計製程技術，建立本土材料供應鏈策略聯盟，與國際材料大廠競爭。
公司計劃在 2026 年正式量產，主要生產用於 2 奈米製程的 BARC 和 EBR 產品。新應材已投入超過 40 億元的資本支出和研發費用，預計到明年底將達到 50 億元，顯示其對半導體光阻領域的堅定投入。透過持續的技術創新和策略合作，新應材旨在半導體特化材料領域取得領先地位，並在半導體光阻市場中佔有一席之地。
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