新應材目前在KRF光阻劑的研發進度如何？

新應材 KRF 光阻劑研發進度：挑戰與策略

新應材在 KRF（深紫外光）光阻劑的研發上，雖為台灣先進製程微影材料的先驅，但面臨不少挑戰。相較於面板光阻劑，半導體光阻劑的技術門檻更高，尤其在純度要求和關鍵上游材料的取得上。由於關鍵材料長期由日本廠商掌控，且這些廠商不願與客戶競爭，新應材在材料供應上遭遇困難。

自主開發策略與合作聯盟

為了解決對日本供應商的依賴，新應材積極投入資源自行開發關鍵材料，如光酸和樹脂單體。然而，這些材料的技術門檻極高，需要長時間的研發與驗證。公司正透過與本土材料供應商建立策略聯盟，共同尋求突破上游材料瓶頸的機會。

目前研發階段與未來展望

新應材已投入 KRF 光阻劑的研發超過三年，目前處於驗證階段。公司與本土材料供應商策略聯盟，積極準備迎接未來的機會。目標是透過持續研發與創新，在半導體光阻劑領域佔有一席之地，實現自主供應，擺脫對日本供應商的依賴。