新應材 (4749) 作為一家台灣半導體特殊化學材料公司，正積極擴展其在半導體光阻領域的業務。該公司最初以面板光阻材料起家，近年來已轉向半導體先進製程材料的開發，特別是微影（Lithography）製程中使用的特殊化學材料。新應材的目標是成為台灣唯一在半導體微影製程中，從原料合成、純化到配方自主設計，並持續擴大量產的特化材料廠。
新應材目前的主力產品包括用於 3 奈米以下的表面改質劑 (Rinse)，以及用於 2 奈米的底部抗反射層 (BARC) 和洗邊劑 (EBR) 產品。公司將「半導體光阻」視為未來 3~5 年的發展重點，其中包括用於半導體光學元件的 ARF 光阻，以及前段製造的 KRF 光阻。此外，封裝特化材料也是新應材後續發展的重點之一。為滿足大客戶 2 奈米產能擴充的需求，新應材正在擴建其位於南科高雄園區的二期廠房，預計於 2025 年第二季完工、2026 年正式量產。
新應材在半導體特化材料領域的競爭優勢包括從配方開發向上整合自建原料合成能力、建立本土材料供應鏈策略聯盟、快速回應及高學習曲線，以及優異的品質控管及自主設計製程技術。這些優勢使新應材能夠與國際材料大廠競爭。公司在半導體領域的資本支出和研發費用已超過 40 億元，預計到明年底將達到 50 億元，顯示其對該領域的堅定投入。新應材預估，2025 年半導體材料產值約佔全球半導體產值的 1 成，而光阻及周邊材料產值約為 67 億美元，可見其市場潛力。
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