新應材擴建南科高雄園區二期廠房的主要目的是為了滿足大客戶在2奈米製程上的產能擴充需求。作為一家專注於半導體特用化學材料的台灣公司，新應材正積極擴展其在半導體光阻領域的業務，特別是微影製程中使用的特用化學材料。透過擴建廠房，新應材希望能夠擴大量產，並成為台灣唯一在半導體微影製程中，從原料合成、純化到配方自主設計的特化材料廠。
新應材位於南科高雄園區的二期廠房預計於2025年第二季完工，並計劃在2026年正式量產。這項擴建計畫是為了支持其在半導體光阻領域的發展，特別是針對3奈米以下的表面改質劑 (Rinse)，以及2奈米的底部抗反射層 (BARC) 和洗邊劑 (EBR) 產品。
新應材將「半導體光阻」視為未來3~5年的發展重點，其中包括用於半導體光學元件的ARF光阻，以及前段製造的KRF光阻。公司已投入超過40億元的資本支出和研發費用，並預計到明年底將達到50億元，顯示其對該領域的堅定投入。新應材的目標是透過自主設計製程技術、建立本土材料供應鏈策略聯盟等方式，與國際材料大廠競爭，並在半導體特化材料領域取得領先地位。
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