新應材如何克服國際大廠的主導地位，成功打入台灣晶圓代工大廠的供應鏈？

新應材如何突破國際大廠主導，進入台灣晶圓代工供應鏈

新應材是一家專注於半導體特用化學材料研發與製造的台灣企業，尤其在3奈米及2奈米等先進製程中扮演著關鍵角色。面對歐、美、日等國際大廠長期主導市場的局面，新應材透過自主研發和技術創新，成功打入台灣晶圓代工大廠的供應鏈，成為半導體先進微影製程領域的重要供應商。

技術自主與客製化能力

新應材具備從原料合成、純化到配方自主設計的完整能力，這是在半導體微影製程中少數具備自主設計能力的台灣特用化學材料廠。這種自主性使新應材能夠根據客戶的特定需求，客製化產品配方，提供更符合實際生產需求的解決方案。公司在先進製程所需的關鍵材料，如表面改質劑（Rinse）、底部抗反射層（BARC）和洗邊劑（EBR）等方面，都展現了高度的技術能力。

深耕先進製程材料

在3奈米製程中，新應材的表面改質劑（Rinse）能夠有效改善晶圓表面的性質，確保後續製程的順利進行，提高薄膜的均勻性和附著力。在2奈米製程中，新應材的底部抗反射層（BARC）和洗邊劑（EBR）則有助於提高微影解析度，確保圖案精確轉移到晶圓上，並防止邊緣效應對晶片性能產生不良影響。這些產品的成功應用，不僅提高了客戶的生產良率，也為新應材贏得了市場的肯定。新應材將「半導體光阻」視為未來發展重點，並持續擴大在光阻及周邊材料的投入，以滿足客戶在先進製程上的需求。

擴大產能與未來展望

隨著先進黃光微影材料於2023年獲晶圓代工客戶採用並進入3奈米製程量產，新應材的營運顯著成長。公司在台灣多地設有據點，並持續擴大產能。其中，高雄廠二期擴建是為了滿足大客戶2奈米產能擴充的需求，預計2026年正式量產。這顯示新應材不僅在技術上有所突破，也在產能擴充上積極布局，以應對未來市場的需求增長。