「微量原則」如何成為美國科技戰的利器，影響全球半導體供應鏈？ | 數位時代

「微量原則」如何成為美國科技戰的利器

「微量原則」（De Minimis Rule）是指，即使產品中僅含有微量的美國技術或成分，美國仍有權對該產品的出口進行管制。近年來，美國將此原則擴大應用於半導體產業，使其成為其科技戰的重要工具，對全球半導體供應鏈產生深遠影響。

「微量原則」的具體應用

美國透過「微量原則」，對含有美國技術的半導體設備、材料及軟體等產品實施出口管制。例如，即使一台半導體製造設備僅使用到少量的美國製零件，美國商務部仍有權要求出口商申請許可，甚至直接禁止出口。這種做法使得各國企業在生產或採購半導體相關產品時，都必須仔細評估是否涉及美國技術，否則可能面臨被美國制裁的風險。

「微量原則」對全球半導體供應鏈的影響

美國利用「微量原則」對半導體產業進行管制，對全球半導體供應鏈造成了多方面的影響：

• 供應鏈重塑： 各國企業為了規避美國的管制，開始尋求替代供應商，或將生產基地轉移至不受美國管轄的地區，加速了全球半導體供應鏈的重塑。
• 技術自主化： 各國意識到過度依賴美國技術的風險，紛紛加大對本土半導體產業的投資，推動技術自主化，以降低對美國的依賴。
• 貿易摩擦加劇： 美國的管制措施引發了與其他國家的貿易摩擦，一些國家認為美國濫用「微量原則」，損害了其企業的利益，並違反了自由貿易原則。
• 產業集中化： 由於美國的管制提高了半導體產業的進入門檻，使得資源更加集中於少數具有技術優勢和規模優勢的企業，加劇了產業的集中化趨勢。

ASML 的案例分析

ASML 是全球領先的半導體設備製造商，其 EUV（極紫外光）曝光機是生產先進晶片不可或缺的設備。ASML 最初認為美國不會阻止 EUV 出口至中國，但最終在美國的壓力下，荷蘭政府否決了 ASML 的出口許可申請。ASML 的案例凸顯了「微量原則」在美國科技戰中的作用，以及其對全球半導體產業的影響。美國通過外交施壓、零件禁運等手段，迫使 ASML 無法向中國客戶出售 EUV 曝光機，阻礙了中國半導體產業的發展。

未來趨勢

隨著科技競爭的加劇，預計美國將會繼續利用「微量原則」等工具，對半導體產業進行管制。各國企業應密切關注美國的政策動向，調整經營策略，以應對未來的挑戰。

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