山太士的工程膠帶如何在 FOPLP 和 CoWoS 技術中發揮作用以提高良率？ | 數位時代

山太士工程膠帶在 FOPLP 和 CoWoS 中的作用

山太士工程膠帶等特用化學材料在 FOPLP（面板級封裝）和 CoWoS（Chip-on-Wafer-on-Substrate）技術中扮演著關鍵角色，主要用於解決晶片翹曲問題，從而提高產品良率。這兩種先進封裝技術都面臨著在封裝過程中因熱應力和材料不匹配而導致的晶片翹曲挑戰，這會嚴重影響封裝的可靠性和效能。

如何在 FOPLP 中應用山太士工程膠帶

在 FOPLP 工藝中，由於面板尺寸較大，晶片在封裝過程中更容易產生翹曲。山太士工程膠帶具有優異的黏著性和可剝離性，能夠在晶片封裝前將其固定在面板上，有效減少因熱應力引起的變形。此外，這些工程膠帶還具有良好的耐熱性和化學穩定性，能夠在封裝過程中保護晶片免受損害。通過使用山太士工程膠帶，FOPLP 能夠實現更高的生產效率和更低的成本，同時確保產品的可靠性。

如何在 CoWoS 中應用山太士工程膠帶

CoWoS 技術通過將多個晶片堆疊在一個中介層上，實現了更高的晶片互連密度。然而，這種堆疊結構也增加了晶片翹曲的風險。山太士工程膠帶可以在晶片堆疊和封裝過程中，用於固定和保護晶片，減少因熱膨脹係數不匹配而引起的變形。此外，這些膠帶還能有效分散應力，防止晶片在封裝過程中受到損害。通過在 CoWoS 工藝中使用山太士工程膠帶，可以顯著提高封裝的良率和效能，確保高效能運算應用所需的穩定性和可靠性。

提升良率的具體機制

山太士工程膠帶通過以下機制在 FOPLP 和 CoWoS 技術中提升良率：

• 減少晶片翹曲： 通過提供穩定的支撐和固定，減少因熱應力引起的晶片變形。
• 應力分散： 有效分散封裝過程中的應力，防止晶片受到過度壓力。
• 保護晶片： 在封裝過程中保護晶片免受化學品和高溫的損害。
• 提升黏著性： 確保晶片與基板或中介層之間的牢固連接，提高封裝的可靠性。

這些機制共同作用，使得山太士工程膠帶成為提升 FOPLP 和 CoWoS 技術良率的關鍵材料。

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