尼康過去半年光刻機銷售量僅 9 台，且幾乎全為成熟製程設備，與艾司摩爾同期高端 EUV 光刻機 160 台的出貨量形成鮮明對比，主要原因在於尼康在兩次關鍵技術路線選擇上出現失誤，以及後續的「全自研、全日本產」策略未能成功。
2002 年，尼康拒絕了台積電林本堅提出的浸沒式光刻機方案，不願放棄已投入 7 億美元的 157 奈米乾式光刻機研發。然而，2004 年問世的浸沒式光刻機迅速橫掃市場，使尼康失去了高端市場的主導權。受挫後，尼康將希望寄託於 EUV 極紫外光技術，並啟動「全自研、全日本產」計畫，投入逾千億日元，但由於美國的技術封鎖，尼康被排除在 EUV 聯盟之外，最終僅產出無法商用的原型機，被迫終止商業化開發。
反觀艾司摩爾，透過引入英特爾、三星、台積電等戰略投資，整合德國蔡司鏡頭、美國 Cymer 光源等全球頂尖資源，成功掌握 EUV 技術。尼康對自身技術實力的過度自信、對外部創新的排斥，以及全產業鏈閉環的執念，使其在科技變革浪潮中落後，最終導致市場表現不佳。
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