尼康在光刻機技術發展上,因兩次關鍵的技術路線選擇失誤而最終未能造出EUV光刻機。第一次是2002年,尼康拒絕了台積電林本堅提出的浸沒式光刻機方案,堅持投入7億美元研發157奈米乾式光刻機。第二次是EUV極紫外光技術的發展,尼康雖啟動「全自研、全日本產」計畫,卻因美國技術封鎖被排除在EUV聯盟之外,最終投入大量資源卻未能產出可商用的原型機。
尼康的潰敗是日本產業「加拉帕戈斯化」的典型縮影,體現於對自身技術實力的過度自信,對外部創新的排斥,以及全產業鏈閉環的執念。尼康對林本堅的創新方案的拒絕,以及在EUV技術上堅持「全自研」的策略,都顯示了其封閉和排外的特點。這種策略使其在全球科技變革的浪潮中,未能及時調整方向,最終淪為孤島。
尼康的悲劇警示其他企業,在全球科技競賽中,最危險的並非技術落後,而是傲慢與封閉的心態。企業應避免過度自信,保持開放的心態,積極擁抱外部創新,並與全球頂尖資源整合,才能在快速變化的科技領域保持競爭力。
This is a simplified version of the page. Some interactive features are only available in the full version.
本頁為精簡版,部分互動功能僅限完整版使用。
👉 View Full Version | 前往完整版內容