台積電 EUV（極紫外光刻）製程在 Ryzen 處理器中的應用，主要體現在降低功耗和發熱量，進而提升處理器的整體效能和穩定性。透過更精密的電路設計和更小的元件尺寸，EUV 製程能有效減少晶片在運行時的能量消耗，並降低廢熱產生。
EUV 製程利用更短波長的光源進行晶片製造，使得電晶體和其他元件可以更加緊密地排列在晶片上。這種緊密的排列不僅提升了晶片的效能，也減少了電子的移動距離，從而降低了電阻和能量損耗。更低的功耗意味著處理器在執行相同任務時，所需的電力更少，進而減少了發熱量。這對於需要長時間運算的應用，如遊戲和影音編輯，尤其重要。
降低發熱量除了能減少對散熱系統的依賴外，還有助於維持處理器的最佳效能。在高負載下，過高的溫度可能導致處理器降頻，以防止過熱損壞，這會直接影響效能表現。透過 EUV 製程，Ryzen 處理器可以在更低的溫度下運行，從而減少降頻的可能性，確保長時間的穩定效能。這對於追求極致效能的遊戲玩家和專業用戶來說，是一項重要的優勢。
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