中國科學家透過逆向工程仿製ASML的極紫外光刻機（EUV），這項技術突破對全球半導體產業格局將帶來什麼影響？

Question

中國仿製ASML EUV光刻機的技術突破

Accepted Answer

路透社報導指出，中國科學家在深圳一高度戒備的實驗室中，成功逆向工程仿製了ASML的極紫外光刻機（EUV），打造出一台原型機。這項技術突破被視為中國在半導體自主道路上的一大進展，可能對全球半導體產業格局產生深遠影響。原型機由曾任職ASML的工程師團隊打造，目前正在測試中，雖然尚未能製造出可用的晶片，但已成功產生極紫外光並可正常運作。

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中國科學家透過逆向工程仿製ASML的極紫外光刻機（EUV），這項技術突破對全球半導體產業格局將帶來什麼影響？

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