TWINSCAN EXE:5200曝光機的產能如何提升晶圓生產效率？

TWINSCAN EXE:5200 曝光機如何提升晶圓生產效率

英特爾（Intel）為了在 2025 年重奪晶片霸主地位，已向艾司摩爾（ASML）訂購最新研發的 TWINSCAN EXE:5200 曝光機。這款具備 High NA（數值孔徑）的曝光機系統採用了與以往不同的光學系統，能夠顯著提升晶圓生產效率。

產能提升的具體數據

相較於舊款曝光機每小時約生產 120 至 175 片晶圓，TWINSCAN EXE:5200 曝光機的產能可達到每小時 200 片以上，大幅提高了晶圓生產速度。英特爾表示，這款曝光機是為了 2025 年後的製程節點所設計，預計將用於 Intel 20A 製程，該製程可能相當於台積電的 2 奈米製程技術。

設備成本與競爭力

儘管每台 TWINSCAN EXE:5200 的價格遠遠超過 3.4 億美元（約新台幣 94 億元），但為了在激烈的半導體競爭中脫穎而出，這項投資對英特爾來說至關重要。艾司摩爾已收到總計 5 台原型機的訂單，預計 2023 年開始交付客戶進行測試。透過採用這款先進的曝光機，英特爾希望能夠追趕上台積電等競爭對手的腳步，提升其在半導體市場的競爭力。