Rapidus 與 imec 合作的重點 EUV 微影技術對 2 奈米晶片生產有何關鍵作用？

Rapidus 與 imec 合作的重點 EUV 微影技術對 2 奈米晶片生產的關鍵作用

Rapidus 與 imec 的合作主要集中在極紫外光 (EUV) 微影技術的研發與應用，這項技術對於生產 2 奈米晶片至關重要。EUV 微影技術能夠在晶片上刻畫出更精細的電路，從而實現更高的晶片密度和效能。Rapidus 預計在 2025 年開始試產前導入 EUV 微影設備，並計劃評估增購，以克服 2 奈米晶片量產的技術挑戰。

EUV 微影技術在 2 奈米晶片生產中的作用

EUV 微影技術利用波長僅 13.5 奈米的紫外光，相較於傳統的深紫外光 (DUV) 微影技術，能夠實現更高的解析度和更精細的圖案轉移。這使得晶片製造商可以在更小的面積上製作更多的電晶體，從而提高晶片的效能和降低功耗。對於 2 奈米晶片而言，EUV 微影技術是實現其高密度和高效能的關鍵。

Rapidus 與 imec 合作的策略意義

Rapidus 透過與 imec 的合作，旨在結合各方優勢，加速其 2 奈米晶片的開發與量產進程。imec 在半導體研究領域擁有領先地位，尤其在 EUV 微影技術方面具有豐富的經驗和專業知識。Rapidus 借助 imec 的技術支援，能夠更有效地掌握 EUV 微影技術的應用，從而提高 2 奈米晶片的生產良率和效能。此外，Rapidus 也積極尋求更多合作夥伴，以加強其在資金、技術和市場方面的實力，共同推動 2 奈米晶片的開發與量產。