EUV光刻機的單價高達30億元，其關鍵技術優勢為何？

ASML EUV 光刻機的關鍵技術優勢

ASML 的極紫外光 (EUV) 光刻機是目前 7 奈米以下先進製程研發的關鍵設備，其單價高達新台幣 30 億元。這種光刻機的主要技術優勢在於它能大幅提升晶片效能，透過在相同尺寸的晶片上放入更多的電晶體來達成。由於其在市場上的高度佔有率，ASML 成為半導體產業中舉足輕重的供應商。

EUV 光刻機在台積電的重要性

台積電晶圓廠營運副總經理王英郎曾指出，EUV 技術對於提升晶片效能至關重要，能夠將晶片上的電晶體數量從 1 億顆提升到 100 億顆。業界分析顯示，台積電可能安裝了全球過半數的 EUV 光刻機，顯示其在先進製程技術上的領先地位。ASML 的年報也顯示，其銷售額有相當比例來自台灣，突顯了台積電與 ASML 之間的緊密合作關係。

台灣供應鏈的機會

儘管 ASML 在 EUV 光刻機領域具有領導地位，但其並非所有零組件都自行生產，這為台灣的零組件供應鏈提供了關鍵的成長機會。台灣的供應鏈廠商可以透過提供客製化的解決方案，滿足半導體企業的需求，並提升其生產效率。