DUV曝光與乾蝕刻技術在超穎透鏡的臨界尺寸控制上，能達到何種等級的精度？

MetaOptics DUV 曝光與乾蝕刻技術的精度等級

MetaOptics 採用深紫外光（DUV）曝光與乾蝕刻技術，搭配 12 吋玻璃基板來製造超穎透鏡，相較於市場上常見的奈米壓印技術，此方法在臨界尺寸控制上具有顯著優勢。奈米壓印技術在達到 120 奈米以下的尺寸時面臨挑戰，且難以維持穩定的垂直圓柱結構。

高精度尺寸控制

DUV 曝光與乾蝕刻技術能夠實現更高的製作精度。MetaOptics 目前已能將圓柱結構的臨界尺寸（Critical Dimension）控制在 100 奈米以下，線性結構約為 90 奈米。這種精確度對於超穎透鏡的光學性能至關重要，因為微小的結構偏差會顯著影響光線的控制效果。乾蝕刻技術相較於奈米壓印，更能確保結構的垂直度與一致性，從而提升產品的整體品質和穩定性。

量產能力與未來展望

儘管市場上已有廠商採用奈米壓印技術量產超穎透鏡，MetaOptics 認為產業仍缺乏可支撐大量生產的製造技術，以及相應的測試與分選設備。透過 DUV 曝光與乾蝕刻技術，MetaOptics 旨在解決這些瓶頸，提供從生產到測試的一體化解決方案。目前，MetaOptics 已與多家國際級智慧手機和車用客戶展開合作，並預計明年正式進入量產階段，顯示其技術在量產方面具有潛力。