ASML 的 High-NA EUV 機台每小時 185 片晶圓的產能，相較於舊技術有哪些突破？

Question

High-NA EUV 技術提升產能的突破

Accepted Answer

High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光）技術透過將數值孔徑從 0.33 提高到 0.55，實現更高的解析度和成像精確度，使晶圓上的電路圖更精密。據稱，High-NA EUV 機台每小時可列印超過 185 個晶圓，顯著提升先進製程的產能。這對滿足市場對高性能晶片的需求至關重要，是相較於舊技術的一大突破。

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ASML 的 High-NA EUV 機台每小時 185 片晶圓的產能，相較於舊技術有哪些突破？

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