ASML的EUV曝光機在半導體製程中扮演什麼角色？

ASML EUV曝光機在半導體製程中的關鍵角色

艾司摩爾（ASML）的EUV（極紫外光）曝光機在現代半導體製造中扮演著至關重要的角色。這種設備使用光學技術在晶圓上刻畫出極其精細的電路，使得7奈米以下的先進製程成為可能。EUV曝光機被視為中美科技戰中的出口管制目標，其技術複雜性和重要性可見一斑。最新款的High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光）曝光機，單價高達約新台幣120億元，顯示其技術含量和市場價值。

EUV曝光機的工作原理與技術挑戰

EUV曝光機利用極紫外光波長（13.5奈米）的光源，通過一系列精密的反射鏡將光束聚焦到晶圓表面。由於EUV光的波長極短，可以刻畫出更小、更密集的電路圖案，從而實現更高性能和更低功耗的半導體元件。然而，EUV技術也面臨著巨大的挑戰，包括光源的穩定性、光學元件的精度、以及曝光過程中的熱管理等。這些挑戰使得EUV曝光機的研發和製造變得極其複雜和昂貴，全球僅有ASML能夠生產。

台灣半導體設備產業的現狀與發展

儘管半導體設備供應商主要集中在歐洲、美國和日本，台灣在半導體設備產業中也扮演著重要的角色。台灣的電子設備產值在2024年達到新台幣4,583億元，其中半導體設備產值為1,532億元，佔整體產值約3成。工研院產科國際所預測，至2028年台灣半導體設備產值將達2,500億元，年複合成長率12.9％。台灣業者多為國際設備大廠提供代工、經銷代理、零配件與耗材，以及維修保養等服務。少數業者如天虹和漢辰，專攻前段製程技術自研設備，並在特定領域取得突破。後段封測設備方面，台灣設備廠有更多的發展機會，許多PCB和面板設備業者也轉型投入，特別是在台積電的CoWoS先進封裝等新技術領域。