陳力銘被控在台積電2奈米洩密案中，主要的犯罪動機是什麼？

陳力銘洩密案的主要犯罪動機

陳力銘被控在台積電2奈米洩密案中的主要動機，是為了提升他在東京威力科創（TEL）所負責的蝕刻機台的性能。他被指控在轉職後，企圖利用台積電的營業秘密來改善東京威力科創的產品技術。

具體行為與手段

為了達到上述目的，陳力銘涉嫌透過在台積電任職的吳秉駿和戈一平，非法獲取並重製台積電的2奈米關鍵技術。這些技術被視為台積電的重要營業秘密，也是國家核心關鍵技術。檢方認為，陳力銘的行為已嚴重侵害台積電的權益，並可能對國家安全造成威脅。

檢方指控與求刑

基於上述動機和行為，檢方對陳力銘提出了多項指控，包括違反營業秘密法和國家安全法。檢方具體求刑包括：

• 意圖域外使用而竊取營業秘密罪，求刑5年
• 竊取營業秘密罪，求刑3年
• 國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪，求刑8年

檢方請求法院對陳力銘處以應執行有期徒刑14年，顯示檢方對此案的重視程度。