相較於傳統的全面矽中介層，LSI技術在選擇性應用上，如何具體降低CoWoS-L製程的總體成本？

Question

LSI 技術降低 CoWoS-L 製程總體成本的具體方式

Accepted Answer

局部矽互連（LSI）技術通過選擇性地在 CoWoS-L 製程中應用於特定區域，有效降低了總體成本。相較於傳統的全面矽中介層，LSI 不是在整個晶片上都使用昂貴的矽中介層，而是僅在需要高速晶片互連的區域（如連接 HBM 記憶體）使用，從而減少了矽中介層的使用量。