東京威力科創如何涉入台積電2奈米洩密案？

東京威力科創涉入台積電2奈米洩密案始末

高等檢察署智慧財產分署於8月27日偵結台積電2奈米洩密案，發現東京威力科創前工程師陳力銘，為改善蝕刻機台效能，涉嫌透過在職的台積電工程師吳秉駿、戈一平非法取得台積電2奈米製程的關鍵技術資料。檢方依違反國家安全法等罪嫌，對陳力銘等三人提起公訴，並建請法院從重量刑，分別求處陳力銘有期徒刑14年、吳秉駿9年、戈一平7年。

洩密手法與目的

陳力銘在轉任東京威力科創後，為提升該公司蝕刻機台在台積電的競爭力，多次要求當時仍在台積電任職的吳秉駿、戈一平提供台積電的關鍵技術與營業秘密。具體手法包括拍攝、重製相關技術資料，以利東京威力科創分析並改善其蝕刻機台，目標是爭取台積電2奈米製程的蝕刻站點供應量產機台資格。台積電內部察覺異常後展開調查，並於7月8日向檢調單位提出告訴。

後續發展與影響

檢調單位隨即展開搜索與約談，並聲請羈押禁見陳力銘等三人獲准。高檢署智財分署表示，本案涉及產業命脈的國家核心關鍵技術，嚴重威脅台灣半導體產業的國際競爭力。案件後續將移交智慧財產及商業法院審理，法院將決定審判期間是否繼續羈押禁見。此外，檢方也將持續追查是否有其他法人或自然人涉入此案。